1. Nitrid ferrochrom med lavt kulstofindhold i en vakuumopvarmningsovn ved 1150 grader for at opnå rå ferrochromnitrid, som derefter behandles med svovlsyre for at fjerne jernurenheder. Efter filtrering, vask og tørring opnås chromnitrid. Det kan også opnås ved omsætning af ammoniak og chromhalogenid.
2. Opvarm højrent elektrolytisk krompulver ved 1060 grader i 160 timer i en nitrogenstrøm af en 150 mmHg (1 mmHg=133.322 Pa) søjle, udtøm derefter nitrogenet og stands for at opnå Cr2N.
3. Knus ferrochrom med lavt kulstofindhold til<3mm, take 1000kg and nitride it in a vacuum heating furnace at 1150°C and a nitrogen pressure of 0.0987MPa for 24 hours to obtain coarse nitride ferrochromium. After cooling, crush it to <0.3mm, and take 1000kg for nitriding again at 950°C (other conditions are the same as before). After cooling, crush it to <0.3mm, put it into a 1 cubic meter reactor, and treat it with sulfuric acid for 16 hours to remove the iron. Filter, wash and dry. 109kg of chromium nitride was recovered, containing Cr78.6%, N219.6%, O20.80%, Fe0.59%, and C0.13%. It can also be obtained by the reaction of ammonia and chromium halide.
Chromnitrid bruges ofte som en tyndfilmbelægning. Med høj hårdhed og god slidstyrke er det en højt værdsat slidstærk belægning. Chromnitridfilmen fremstillet ved hul katode-ionplettering har en Cr+Cr2N tofasestruktur, en kornstørrelse på 20-70nm og en hårdhed på HV22GPa. Efter vakuumudglødning kan den øges til HV35.4GPa. Dens slidstyrke er bedre end CrC-film. Den reaktive sputterende kromnitridfilm kan opnå to strukturer, Cr+Cr2N eller enfaset CrN, med hårdheder fra HV20 til 25GPa (hårdhed af bulk CrN HV11GPa).
